2024年全球半导体薄膜沉积设备行业发展概况及行业发展趋势分析[图]

共研产业研究院通过对公开信息分析、业内资深人士和相关企业高管的深度访谈，以及分析师专业性判断和评价撰写了《2025-2031年中国半导体薄膜沉积设备行业深度调研与市场年度调研报告》。本报告为半导体薄膜沉积设备企业决策人及投资者提供了重要参考依据。

为确保半导体薄膜沉积设备行业数据精准性以及内容的可参考价值，共研产业研究院团队通过上市公司年报、厂家调研、经销商座谈、专家验证等多渠道开展数据采集工作，并运用共研自主建立的产业分析模型，结合市场、行业和厂商进行深度剖析，能够反映当前市场现状、热点、动态及未来趋势，使从业者能够从多种维度、多个侧面综合了解当前半导体薄膜沉积设备行业的发展态势。

半导体薄膜沉积设备是指用于将薄膜材料沉积在半导体材料表面的设备。这些设备能够在精确控制的条件下，将特定的材料以原子或分子的形式逐层沉积到基材表面，形成具有特定厚度和性质的薄膜。

薄膜沉积设备分类

全球薄膜沉积设备市场规模预计由2017年的125亿美元增长至2025年的340亿美元。未来，逻辑芯片制程升级、存储芯片堆叠层数提升、新工艺的应用，使得薄膜沉积设备在产线中的占比及价值量逐步提升，全球薄膜沉积设备市场规模将保持稳定增长态势。

2017-2025年全球半导体薄膜沉积设备市场规模预测及增速

在薄膜沉积设备市场中，PECVD份额占比达33%.C而其余占比较大的设备有PVD(19%)ALD(11%)、管式CVD(12%)等。由于PECVD具有沉积速度快、工作温度低的优点，其在薄膜沉积设备中占据主要地位。

2023年全球半导体薄膜沉积设备细分市场规模占比

半导体薄膜沉积设备行业发展趋势向好，市场规模将持续扩大，技术不断进步，国产化率逐步提升，应用领域不断拓展，市场竞争日趋激烈，政策环境持续优化。未来，随着半导体产业的不断发展和国家政策的持续支持，半导体薄膜沉积设备行业将迎来更加广阔的发展前景。

半导体薄膜沉积设备行业发展趋势